二手日本光驰1800射频源真空镀膜机包安装培训

hcgx2025

日本光驰OTFC-1800射频源真空镀膜机是一款广泛应用于光学、半导体和电子行业的高精度镀膜设备，具备自动化控制、高真空度和复杂膜系制备能力，适用于红外截止滤光片、防反射膜（AR）、防指纹膜（AF）等高性能光学薄膜的批量生产。

核心技术参数与配置
‌真空系统‌

极限真空度：≤7.0×10⁻⁵Pa，确保镀膜环境高纯净度
排气系统：机械泵 + 罗茨泵（爱德华品牌）+ 扩散泵 + POLYCOLD低温冷凝器，抽气至工作真空仅需约15–20分钟
真空室材质：SUS304不锈钢，尺寸为φ1800mm×1920mm(H)，结构稳定且耐腐蚀
‌镀膜控制与监控‌

光学膜厚监控仪：HOM2-R-VIS350A，波长范围350–1100nm，支持反射式或透射式检测
膜厚传感器：XTC/3 + 6点式石英晶体传感器，实现纳米级精度控制，公差可达±0.1nm
控制系统：XTC/3全自动蒸镀控制系统，集成在线阻针检测，减少人工干预
‌蒸发与离子源配置‌

蒸发源：双电子枪（16F/16P型号），搭配12穴环形坩埚，支持100层以上复杂膜系镀制
射频离子源（RF离子源）：23寸光驰RF离子源，提供高密度均匀离子电流，显著提升膜层致密性、附着力及耐磨性（通过4万次摩擦测试）
‌工件处理能力‌

工件架直径：φ1400mm–φ1600mm，转速10–30rpm可调，支持中心回转、行星式或钟罩式运行模式，适配多种基材（玻璃、塑胶、金属等）均匀镀膜
基板加热：最高温度达350℃，有助于改善膜层结晶质量与附着力
‌设备运行条件‌

电源：三相200V，50/60Hz，功率约80–150kVA
冷却水流量：≥180升/分钟，空气压力≥0.5MPa
设备重量：约11–11.2吨，外形尺寸约5700mm(W)×7700mm(D)×4000mm(H)
应用领域
‌光学器件‌：红外截止滤光片、分色滤光片、增透膜、高反射镜、激光分光元件
‌消费电子‌：手机盖板、触摸屏AF/AS复合膜、车载显示镀膜

‌半导体与医疗‌：硅片表面功能膜、生物荧光检测用滤光片（满足高信噪比、暗背景要求）
详情  杨经理 18103045976