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标题: 二手日本光驰AR膜/AF膜/高反射膜专用光学镀膜机 蒸发镀膜设备OTFC-1800 [打印本页]

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作者: HC112233    时间: 2025-4-16 14:42
标题: 二手日本光驰AR膜/AF膜/高反射膜专用光学镀膜机 蒸发镀膜设备OTFC-1800

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[color=var(--md-box-samantha-normal-text-color)  !important]光驰镀膜机 OTFC-1800 是一款高性能的光学薄膜镀膜设备，以下是其相关介绍：

• [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]主要结构与功能2：
  • [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]真空室：采用 SUS304 不锈钢材质，尺寸为 Φ1800mm×1920mm（H），为镀膜过程提供高真空环境，减少杂质对膜层质量的影响。
  • [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]工件架：尺寸为 Φ1600mm，转速在 10rpm 至 30rpm 之间可变，可使工件在镀膜过程中均匀地接收镀膜材料，保证膜层厚度的均匀性。
  • [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]光学膜厚控制系统：采用 HOM2-R-VIS350A 高精度光学膜厚监控仪，波长范围为 350nm 至 1100nm，可通过反射式或透射式进行测量，搭配 XTC/3+6 点式石英晶体传感器，实现对膜厚的精确控制，膜层控制精度可达 ±1nm。
  • [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]蒸发源：配备 2 套电子枪，可实现多种材料的蒸发镀膜，搭载多点和环型坩埚，可镀 100 层以上薄膜，满足不同光学薄膜的制备需求。
  • [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]离子源：采用 23cm RF 离子源，能产生均匀分布的高离子电流密度离子束，在镀膜过程中对薄膜进行离子辅助沉积，提高薄膜的致密度、附着力和光学性能。
  • [color=var(--md-box-samantha-deep-text-color) !important]排气系统：有两种选择，一是采用机械泵、2 个扩散泵加低温冷凝器（POLYCOLD）的组合，二是采用 2 个冷凝泵，可在 20 分钟内将真空度从大气压抽至 1.3×10⁻³Pa，极限压力可达 7.0×10⁻⁵Pa 以下 (, 下载次数: 209)
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